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          透明氧化鋁陶瓷概述

          透明氧化鋁陶瓷具有陶瓷固有的耐高溫、耐腐蝕、高絕緣、高強度等特性,又具有玻璃的光學性能,因此得到廣泛應用和迅速發展。
              透明陶瓷(transparent ceramics)是在20世紀50年代末60年代初發展起來的。由于透明氧化鋁陶瓷具有陶瓷固有的耐高溫、耐腐蝕、高絕緣、高強度等特性,又具有玻璃的光學性能,因此得到廣泛應用和迅速發展。
              一般陶瓷由于對光產生反射損失和吸收損失,因而是不透明的。造成這些損失的原因,是陶瓷體內的氣孔、雜質、晶界、晶體結構對透光率的影響。
              要使陶瓷透明,其前提是使光能通過。入射到陶瓷的光,一部分表現為表面的反射和內部的吸收, 剩下的就成為透射光。因此,希望透明陶瓷的反射和吸收要越少越好。
              陶瓷材料對光線的吸收是由多晶體本身和雜質所引起。而散射可由多晶材料的外表面引起,也可由材料內部的散射中心所引起。材料內部的散射q心則來自于多晶體本身折射率不同的雜質以及微三孔。散射與晶粒大小有密切的關系。晶粒直徑與入射光波長相同時散射最大。圖2-1-7為透明陶瓷中光散射模型示意圖。當消除了雜質和空隙造成的吸收和散射時,陶瓷的透光性主要取決于多晶體本身對光的吸收性能。那么其透光率T(%):
              式中  Io-入射光強度,S-l/Sr;
              I一透射光強度,S-1/Sr;
              I——多晶體的吸收系數,cm-l;
              a——微氣孔平均直徑,弘m;
              t——微氣孔有效厚度,相當于最緊密堆積狀態在一個截面堆積的微氣孔厚度,ym;
              d。——微氣孔平均直徑,pm;
              ‰——多晶體的入射率;
              n。——微氣孔的折射率,近似等于1;
              A-入射光波長,弘m;
              c-常數,通常取7。
              由上式可知,使陶瓷具有透光性,必須具備下面的條件:
              (1)致密度要高(為理論密度的99.5%以上);
              (2)晶界上不存在空隙,或空隙大小比光的波長小得多;
              (3)晶界沒有雜質及玻璃相,或晶界的光學性質與微晶體之間差別很小;
              (4)晶粒較小而且均勻,其中沒有空隙;
              (5)晶體對入射光的選擇吸收很小;
              (6)無光學各向異性,晶體結構最好是立方晶系;
              (7)表面光潔度高。
              上述條件中,關鍵是獲得致密并且具有小而均勻的晶相。圖2-1-8為幾種透明陶瓷的透光率特性曲線。
              圖2-1-8幾種透明陶瓷材料的透光率曲線
              有些材料如氧化鋁、氧化鈹等,雖是六方晶系,但由于是光學一軸晶體,所以盡管透射光變成散射兆,仍能成為透明陶瓷。即使是一軸晶、二軸晶的光學各向異性體,若雙折射不大,且接近各向同性體的情況,則仍顯示其透明性。透明PLZT壓電陶瓷即是一例。    有關陶瓷透明機理雖然進行了不少研究,但系統的研究還不夠,而且對透明本質目前仍處之中。
              2.透明氧化鋁陶瓷
              透明氧化鋁陶瓷(transparent alumina ceramlcs)的最大特點是對可見光和紅外光有良好透過性,最早由美國的通用電器公司研究成功。
            (1)工藝原理
            透明氧化鋁陶瓷制作的關鍵,是如何控制氧化鋁以體積擴散為燒結機制的晶粒長大過程。吾在燒結過程中晶粒生長過快就會產生晶界裂縫,許多氣孔被晶粒包圍。而且當晶粒生長速主大于氣孔的移動速度時,晶體內部包裹的氣孑L更不易排除。實踐表明,加入某些微量添加物曇有抑制晶粒長大的作用。例如,加入適量的Mg0,能獲得透明氧化鋁陶瓷。由于加入
          7.:gO,形成MgO.A120。尖晶石相在A120。晶界表面析出,阻止晶界過快遷移。而且Mg0三高溫下比較容易揮發,能防止形成封閉氣孔,因此限制了氧化鋁晶粒的長大。含量與氧化鋁透光率之間的關系。Mg0含量增加,由于生成過多的鎂鋁尖晶第二相,而增加了對光的散射率,降低其透光性。Mg0的加入量一般為0.1%~0.5%。
              根據用不同波長的單色光通過透明氧化鋁陶瓷表明,當氣孔大小與渡長相等時,光透射率最小,說明氣孑L的平均尺寸是制作透明陶瓷應該控制的重要因素。例如燒結透明A12 03的晶芝尺寸約為2511m,比較均勻,氣孔半徑為0.5~1.0pm,氣孑L率小于0. 1%。熱壓燒結透明120。晶粒尺寸為1~2 ym,大小不均,氣7L半徑約0.1pm。它們的透光率與光波關系在紅外區域,與藍寶石相近;在可見光區,比燒結A12 03的透光率低。這是由于熱玉A12 03的晶粒尺寸小、氣孔直徑小,在可見光區散射效應強的緣故。
           
              透明氧化鋁陶瓷與波長的關系
              在工藝上,A12 03的純度、細度、成型方法、燒結氣氛等,對其透光率也有影響。例如對燒結來說,在氫氣(或真空)中燒結,由于氫氣滲入坯體,在封閉氣孔中,氫氣的擴散速度比其他氣體大,容易通過A12 03坯體,氣孔比較容易排除,從而提高其透光率。
           
          (2)透明氧化鋁陶瓷工藝方法
          在透明Al。O。陶瓷生產中,對Al:O。原料一般采用高純度的Al。O。(純度在99. 9%以上)。通常是采用硫酸鋁銨分解來制備。其分解過程如下:
                                                             100-200 C   .
          A12 (NH4)2 (S04 )4  . 24HzO =A12 (S04)3 (NH4)ZS04  * Hz0+23HzO +
                                                               500~600 C   .    -
          A12 (S04)3 (NH4)2S04  . H20 -A12 (S04 )3+2NH3  t +S03 'r +2H20 )F
              800-900℃
              A12.(S04).——    =A12 03 +3SO。十
              配方中Mg0是以Mg(NO。)。的形式加入硫酸鋁銨中共同加熱分解,這樣可獲得均勻分布、活性較大的Mg0。
              上面分解制備的Al:O。,一般為y-AI。O。。為了提高Al:O。原料的穩定性,減少收縮,將分解后得到的y-AI。O。再進行預燒,使之轉化為a-AI:O。,預燒溫度為1300℃。但不能完全
          轉化為口-A120。,還會有一部分Y-A120。,目的是提高活性,促進燒結。
              工藝流程有兩種,一是常溫成型,高溫燒結法。一般采用注漿法和等靜壓法。漿料的pH值應保持在3.5左右,流動性較好。成型后的密度應大于理論密度的85%才能獲得良好的透明陶瓷,燒結是在氫氣或真空條件下,在1700~1900℃燒結。二是二次燒結法。美國的“Lucalox”透明A12 03陶瓷,采用二次燒結法,將含有0.5% Mg0的AlzO。粉成型后,先在1000—1700℃氧化氣氛中燒1 h,然后在真空或氫氣中于1700~1950℃燒結。如果采用熱等靜壓制備的透明Alz 03陶瓷,其性能將會更好。
              (3)透明A12 03陶瓷的性能和用途
              透明Alz 03陶瓷的最大特點是對可見光和紅外光有良好的透過性,此外,具有高溫強度大、耐熱性好、耐腐蝕性強的特點,具體性能如表2-1-3。表2-1-3透明Al2 03陶瓷的主要性能
          ┏━━━━━━━━━━━━┳━━━━━━━━━┳━━━━━━┳━━━━━┳━━━━┓
          ┃~—~—~    序號        ┃                  ┃            ┃          ┃        ┃
          ┃性能—~—~~          ┃    Lucalox       ┃    1       ┃    2     ┃    3   ┃
          ┣━━━━━━━━━━━━╋━━━━━━━━━╋━━━━━━╋━━━━━╋━━━━┫
          ┃密度(g/cm3)             ┃        3. 98     ┃    3. 98   ┃    3. 98 ┃        ┃
          ┃氣孔率(%)               ┃          0       ┃            ┃          ┃        ┃
          ┃平均粒徑(ym)            ┃                  ┃    -20     ┃  15~20  ┃        ┃
          ┃總透光率(%)             ┃         90       ┃            ┃  92~95  ┃        ┃
          ┃抗彎強度(MPa)           ┃381. 20~386. 60  ┃   350. 00  ┃          ┃350. 00 ┃
          ┃線膨脹系數(×10-6/℃)   ┃         6. 5     ┃     8. 8   ┃          ┃  7. 7  ┃
          ┃導熱系數[W/(m.K)]     ┃        37. 7     ┃    33. 5   ┃          ┃ 21. 0  ┃
          ┃500℃比體積電阻(Q.cm)  ┃                  ┃    10'z    ┃          ┃  101z  ┃
          ┃擊穿強度(kV/mm)         ┃         64       ┃      60    ┃          ┃        ┃
          ┃介電常數e1( F/m)        ┃         9. 9     ┃            ┃          ┃  9. 9  ┃
          ┃tan8(×10-5)(×103 MHz) ┃        2. 5      ┃            ┃          ┃        ┃
          ┃使用溫度(℃)            ┃                  ┃1700一1900  ┃          ┃        ┃
          ┃Hz中燒結溫度(℃)        ┃   1650~1950     ┃            ┃    1680  ┃        ┃
          ┗━━━━━━━━━━━━┻━━━━━━━━━┻━━━━━━┻━━━━━┻━━━━┛
              根據如上良好的性質,由于耐強堿和氫氟酸的侵蝕,可以用作熔制玻璃坩堝及某些場合代替鉑金坩堝等。由于能透過紅外光,可用作紅外檢測窗材料和納光燈管材料。此外,在電子工業中用作集成電路基片和高頻絕緣材料,以及用作結構材料等。
            88


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          本文“透明氧化鋁陶瓷概述”由科眾陶瓷編輯整理,修訂時間:2014-12-25 10:40:16
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